如何(he)校(xiao)正激光鐳雕鐳射機掃(sao)描誤差

激光鐳雕鐳射機打標的準確性受到很多因素(su)的影響，包(bao)含有振鏡掃(sao)描系統、激光(guang)發生器和(he)控制器以及(ji)感應(ying)器等。當(dang)一部分零件出(chu)(chu)(chu)現(xian)異(yi)常(chang)，哪怕(pa)是(shi)位(wei)置稍微出(chu)(chu)(chu)現(xian)一些(xie)偏(pian)差，都(dou)有可能會(hui)出(chu)(chu)(chu)現(xian)打標錯誤。其中掃(sao)描系統在(zai)工作的時候，就可能會(hui)出(chu)(chu)(chu)現(xian)各種類型(xing)的誤闖(chuang)問題。為了更(geng)好解決掃(sao)描誤差，需要對(dui)激光(guang)鐳雕(diao)鐳射機進行誤差校正(zheng)。

根據(ju)激光(guang)鐳(lei)(lei)雕(diao)鐳(lei)(lei)射機常(chang)見的(de)掃描誤差問題進行總(zong)結和(he)分析，找(zhao)出存在(zai)誤差的(de)原因(yin)(yin)。根據(ju)這些原因(yin)(yin)進行校(xiao)正是(shi)比較(jiao)(jiao)有(you)效的(de)方法(fa)，人們(men)通常(chang)需要通過(guo)實驗(yan)驗(yan)證(zheng)校(xiao)正數(shu)據(ju)的(de)可(ke)(ke)靠性。在(zai)激光(guang)鐳(lei)(lei)雕(diao)鐳(lei)(lei)射機出產時，有(you)自身的(de)一套標準的(de)掃描數(shu)據(ju)，通過(guo)實驗(yan)所得的(de)數(shu)據(ju)，可(ke)(ke)以以此標準為依(yi)據(ju)，進行不斷(duan)的(de)補償后讓(rang)設備更接(jie)近標準。目前常(chang)使用的(de)實驗(yan)方法(fa)有(you)神經(jing)網(wang)絡標定、較(jiao)(jiao)小(xiao)二乘(cheng)擬(ni)合和(he)坐(zuo)標變(bian)(bian)換矯(jiao)正法(fa)，這些方法(fa)可(ke)(ke)以有(you)效地校(xiao)正理論畸變(bian)(bian)、光(guang)學(xue)器件(jian)和(he)掃描系統(tong)等一系列的(de)誤差，是(shi)比較(jiao)(jiao)全面(mian)的(de)。但也正因(yin)(yin)為其(qi)檢測(ce)的(de)范圍廣，其(qi)操(cao)作的(de)復雜(za)程度(du)是(shi)比較(jiao)(jiao)高的(de)，在(zai)實驗(yan)的(de)過(guo)程中也容易出現紕漏，影響激光(guang)鐳(lei)(lei)雕(diao)鐳(lei)(lei)射機的(de)校(xiao)正工作。

為了提高激(ji)光(guang)(guang)鐳(lei)雕鐳(lei)射(she)機實驗時的(de)(de)掃描(miao)速度，提高校(xiao)正的(de)(de)效率和準確性，專家通(tong)常會采用兩(liang)種以上的(de)(de)綜(zong)合(he)校(xiao)正方(fang)法。例如(ru)在(zai)擬(ni)合(he)補償面之后，建立(li)對應(ying)的(de)(de)校(xiao)正網(wang)格表(biao)，然后根(gen)據(ju)(ju)標準的(de)(de)數據(ju)(ju)進(jin)(jin)行(xing)校(xiao)正。這種方(fang)式是(shi)(shi)將試驗的(de)(de)復雜數據(ju)(ju)進(jin)(jin)行(xing)整(zheng)理(li)變得簡(jian)單易(yi)懂(dong)之后，再(zai)做簡(jian)單的(de)(de)校(xiao)正。方(fang)法是(shi)(shi)靈活多變的(de)(de)，人(ren)們在(zai)實際的(de)(de)校(xiao)正過(guo)程(cheng)中，還要結(jie)合(he)激(ji)光(guang)(guang)鐳(lei)雕鐳(lei)射(she)機的(de)(de)具體情況靈活運用科學方(fang)法。